基于白光干涉测量的非接触光学测量方法评估化学机械抛光面

在白光照明下,来自干涉图顺序记录的每一个象素的强度分布图(或干涉信号)立即被建立起来,需要在象素下考虑,当测试和参考波阵面之间的光程差接近零时,可获得一个最大的干涉信号的对比,对比顶点光程差的偏移量,光程差OPD=0位置时是一个常量,这个常量取决于表面材料的特性,当光程差逐渐增大而信号逐渐丢失时信号对比度迅速地下降,照明的长度与光程差的区域比较一致,在图2中表述了一个典型的干涉测量信号与它的R(n)功能形成了明显的对照,注释了所有的检波器同时获得了象素数据。

如果在一个给定的象素测试表面反射图像,然后那个给定的象素记录多个反射信号进行相比较,会得到更多的反射图像,对比每个信号的顶点组成可以看出不同时间的位置与它的相应表面的光程差(OPD)是有关系的,由材料特性引起的照明能量的变化和每个信号的大小对比应得的也是不同的,如果这些反射表面在光源长度一致之内,光路之间合成的反射信号将会交迭,一个典型的合成反射信号交迭呈现在图3中。

在特定象素下考虑,干涉测量的相位是由测试面和参考波阵面之间相位的差异来支配的,测试波阵面的相位是受到影响的,在测试表面由于传播相位延迟和反射相移相对波阵面的相是有影响的,当传播相到达测试表面的高度时是有直接关系的,反射移相是由1)综合表面的实际(n)和假想的(k)组成的折射指数;2)多层堆叠层厚不等;3)表面层之内不同类型的层(例如,未定的显微结构)。

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