当光通过涂有多层透明薄膜层的表面时，合成发射系数可表达为：
一旦方程（3）、方程（4）和方程（6）建立，Rg（k）从校正和反射振幅R（k）、反射相φ（k）获得，从方程（1）和方程（2）来看，在探测器象素方面显示的强度分配与指定表面特性的是能够评估的，图4示出干涉显微镜摄像象素记录铜表面的时间强度分布状态与方程（1）相应的状态分布预测，图5示出在硅上附有3个薄膜层（厚度分别为66nm、27nm和100nm）时测试区域的时间强度分布状态，或者是多反射面和它的理论上预测的分布状态，在图4和图5中描述和记录的固体线条分布状态是由方程（1）产生的，“+”特性描述了来自测量抽取样本的强度值。
由方程（1），产生一个时间信号与一个校准的照明功率密度谱，z向移动步长常数与测量表面的不同特性，例如，薄膜厚度和材料的折射指数，每个信号与测量获得的实际信号进行比较，一旦最匹配的理论信号被决定，表面特性效用适合于原型信号是我们渴望寻求的特性。
3、 测量结果
下列测量结果是用我们的配有50X反射物镜系统所获得的，这个配置具有大约300μm×300μm的观察视场，图6示出了一个全视场经过x和y向侧表面高度图指针位置的2个例子，灰度图像的亮度在表面高度上的每个象素都是成比例的，图像中的暗区由硅表面产生而亮区是在硅上早期提及的相应的多层结构，（分别为200nm厚的TEOS，50nm厚的SiN和500nm厚的PGS）。