完成的附加测量法建立在被提议方法的有效性上，图7是一维侧面图，来自一个post-CMP硅片的腐蚀碟形之上扫描得到的高分辨率铁笔轮廓曲线图，图8呈现出按被提议方法放大的相应侧面缩小图。
图9示出了Veeco AFS和我们的测量系统两者使用被提议的同一种测量方法，源自AFM轮廓的步高是97.55nm，这个结果与源自NanoXam测量系统的结果96.33nm是如此的一致。
4 、结论
论文介绍了已开发和推广的一种非接触表面图形绘制系统--Nano Xam及其测量方法，用这个系统获得的测量结果直接与（AFM）原子力显微分析法和其他精确的表面接触测量系统比较，这些比较证明测量表面梯形高度包括不一致材料特性之间的一种高级关系，最大优点还是能够提供对薄膜层厚度以下表面的充分评价，这一能力意味着在进行（CMP）化学机械抛光加工处理时人为造成的例如铜碟形腐蚀，能够用非接触光学表面形貌测量法以纳米级精度在测量区域上方迅速的描述。
图10示出表面图形绘制系统和用该系统输出的晶圆片图形小部分上方的三维高度图的一个例子，高效率和非接触测量系统能够对复杂的合成表面进行精确的粗放的测量，意味着它对广阔而多样的测量应用拥有强大的潜能。