今天小编要和大家分享的是双极型功率晶体管参数 双极型功率晶体管结构及原理，接下来我将从双极型功率晶体管的参数，双极型功率晶体管的结构及原理，双极型功率晶体管的进展，双极型功率晶体管的应用，这几个方面来介绍。
双极型功率晶体管（bipolar power transistor）通常简称功率晶体管，是最普及的一种功率晶体管。其中大容量型又称巨型晶体管，简称GTR。功率晶体一般为功率集成器件,内含数十至数百个晶体管单元。按半导体的类型，元件被分成NPN型和PNP型两种，硅功率晶体管多为前者。
双极型功率晶体管的参数
型号：2SD1258
厂家：松下
结构：NpN
用途：High-hFE
VCBO（V）200（V）
VCEO（V）150（V）
hFE最小值：500
hFE最大值：2000
包装类型：N-A1、N-G1
双极型功率晶体管的结构及原理
图1是功率晶体管的符号，其上e、b、c分别代表发射极、基极和集电极。
图2是普通NpN型器件局部结构的剖面。图中1为发射区，2为基区，3为集电区，4为发射结，5为集电结。
图3示其工作原理（对于pNp型器件，则需要将两组电源极性反接），其中基极加0.6V左右的正向偏压，集电极加高得多的反向偏压（数十至数百伏）。发射结通过的电流，是由发射区注入到基区的电子形成的，这些电子的小部分在基区与空穴复合成为基极电流Ib，其余大部分均能扩散到集电结而被其电场收集到集电区，形成集电极电流Ic。图4是与图3相对应的器件的共发射极输出特性，它反映了器件的基极控制作用及不同的Ib下，Ic与Vce之间的关系。从图4中看出，特性曲线明显分成3个区。在线性区，Ic与Ib成比例并受其控制，器件具有放大作用（倍数β=Ic/Ib）；在截止区，器件几乎不导电；在饱和区，器件的饱和压降仅在1～2V上下(因饱和区妭CE太小，集电结电子收集效率很低，器件失去放大作用)。
双极型功率晶体管的进展
20世纪50～60年代，功率晶体管主要是锗合金管。它制作简单，但耐压不高（几十伏），开关频率也较低（十几千赫）。80年代的大功率高压器件大都为硅平面管,用二次扩散法制得。其中GTR的容量是所有功率晶体管中最大的，80年代中期已有600A/150V、400A/550V、50A/1000V等几种。GTR的开关频率上限大致为100千赫。
双极型功率晶体管的应用
功率晶体管广泛应用于各种中小型电力电子电路作开关使用。GTR可用在如变频器、逆变器、斩波器等装置的主回路上。由于GTR无须换流回路，工作频率也可比晶闸管至少高10倍，因此它能简化线路，提高效率，在几十千瓦的上述装置中可以取代晶闸管。但GTR的过载能力较差，耐压也不易提高，容量较小。未采用复合晶体管结构时，GTR的放大倍数较低（10倍上下）。比起容量较低的功率场效应晶体管，GTR的开关频率较低（采用复合结构时，频率仅为1千赫左右）。所以，功率晶体管的应用受到一些限制。
自80年代中期以来，GTR正向大容量、复合管及模块组件化等方向发展，将在几百千瓦或更大容量的装置中取代晶闸管。
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